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更新时间: 2024-05-03
真空镀膜根据镀膜气相金属产生的方式和沉积方式的不同，分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中，磁控溅射法由于镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点，更具有技术优势。真空镀膜材料以金属和金属氧化物为主。金属型镀膜材料有铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等；合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等；金属化合物有二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中，尤以铝应用最多最普遍。这主要因为铝蒸发温度低、易操作、铝镀层对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强、价格低廉。
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